二氧化硅抛光液-二氧化硅抛光液配方

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于二氧化硅抛光液的问题，于是小编就整理了2个相关介绍二氧化硅抛光液的解答，让我们一起看看吧。

cmp抛光液配方？

CMP抛光液配方包含氧化铝或氧化硅等磨料粉末，在碱性环境中与氢氧化钠（NaOH）等碱性添加剂、缓冲剂和表面活性剂等混合，形成高分散、低表面张力的纳米颗粒悬浮体系，能够在硅片表面形成均匀的研磨层，达到较高的磨削效率和精度。不同的CMP抛光液配方会因磨料种类和浓度、添加剂浓度、PH值等条件的变化而发生变化。

镜面抛光一般可以达到多少微米啊？

镜面抛光是说，经多遍抛磨后工件的表面粗糙度可以达到12级以上。

工艺就是用不同粗糙度的砂纸逐级打磨利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。

抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽（消光）。

通常以抛光轮作为抛光工具。

抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。

抛光时，高速旋转的抛光轮（圆周速度在20米／秒以上）压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可达Ra0.63～0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。

大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。

粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。

精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块，连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。

精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的，抛光液由粒度为W5～W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。

抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成，其运动轨迹为均匀稠密的网状，抛光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米，在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺陷。

此外还有电解抛光等方法。

最后用布轮再打磨。

。 这个我自己抛光过TiNi基的，比较软，不过一微米大小的微区，AFM扫出来的粗糙度Ra也能控制在0.8 nm以下。 总结来说，最后粗磨至少要3000目的砂纸，之后用SiO2抛光液配合多孔氯丁抛光皮抛光。如果要求非常高，建议抛光时配合相关氧化剂进行化学机械抛光，效果较好。

镜面抛光是说，经多遍抛磨后工件的表面粗糙度可以达到12级以上。

到此，以上就是小编对于二氧化硅抛光液的问题就介绍到这了，希望介绍关于二氧化硅抛光液的2点解答对大家有用。